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基于缝式喷嘴的高硅钢渗硅速率实验研究

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  • 更新日期:2015-12-30
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目的:研究基于缝式喷嘴的SiCl4和N2混合气体的喷射工艺参数对CVD法制备6.5%Si钢渗硅速率的影响。方法采用不同的反应温度、SiCl4气体体积分数、混合气体流量进行渗硅实验,通过扫描电镜、能谱分析、失重比研究这3个参数对渗硅速率的影响,并对比分析喷嘴喷射反应气体和均匀气氛对渗硅速率的影响。结果缝式喷嘴喷射反应气体能极大提升渗硅速率。随着温度的升高,渗硅速率不断升高,达到1100℃后,渗硅速率趋于饱和不再有明显变化。随着SiCl4气体体积分数和混合气体流量的升高,渗硅速率均先升高,再逐渐降低,当SiCl4气体体积分数为15%时,渗硅速率达到最大;当混合气体流量为1 L/min时,渗硅速率达到峰值。结论 CVD法制备6.5%Si钢时,采用缝式喷嘴喷射反应气体具有明显的优势,最佳工艺参数为:反应温度1170℃,SiCl4气体体积分数15%,混合气体流量1 L/min。

作 者:
王清 陈建钧 相颖杰 厚康 何丹 WANG Qing CHEN Jian-jun XIANG Ying-jie HOU Kang HE Dan  
作者单位:
华东理工大学 机械与动力工程学院,上海,200237 
刊 名:
表面技术  ISTIC PKU
英文刊名:
Surface Technology 
年,卷(期):
2015 (10) 
基金项目:
 
 
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